1.8 上机练习

1.8.1 DNA分子

本例将介绍DNA分子的具体制作方法。其制作重点是阵列的应用，具体的操作方法如下，完成后的效果如图1-50所示。

01 单击【创建】|【几何体】|【球体】工具按钮，在【左】视图中创建一个【半径】为40球体，如图1-51所示。

02 按M键弹出【材质编辑器】，选择一个新的样本球，并将其命名为【球体】，并单击名称后面的按钮，在弹出【材质/贴图浏览器】对话框选择【材质】|【标准】|【标准】选项，并单击【确定】按钮，如图1-52所示。

03 在【明暗器基本参数】卷展栏中将明暗器类型设为【Blinn】，在【Blinn基本参数】卷展栏中将【环境光】和【漫反射】的RGB值设为”9，0，186，“将【自发光】下的【颜色】设为50，【高光级别】设为110，【光泽度】设为45，将创建的材质指定给创建的球体，如图1-53所示。

04 在【前】视图中将球体选中，在工具栏中单击【镜像】按钮，在弹出的【镜像：屏幕 坐标】对话框中单击【X】单选按钮，在【偏移】文本框中输入500，然后单击【复制】单选按钮，如图1-54所示。

05 单击【创建】|【几何体】|【圆柱体】工具按钮，在【左】视图中创建一个【半径】为10，【高度】为500的圆柱体，如图1-55所示。

06 按M键打开【材质编辑器】，选择一个新的样本球并将其命名为【圆柱体】，将材质球的类型设为【标准（Standard）】，将【明暗器基本参数】卷展栏中将明暗器类型设为【Blinn】，在【Blinn基本参数】卷展栏中将【环境光】和【漫反射】的RGB值设为“0，79，135”，将【自发光】下的【颜色】设为50，在【反射高光】选项组中，将【高光级别】设为110，【光泽度】设为35，如图1-56所示。

07 在菜单栏中单击【组】|【成组】选项，在弹出的【组】对话框中的【组名】文本框中输入【DNA】，如图1-57所示。

08 在菜单栏中单击【工具】|【阵列】选项，弹出【阵列】对话框，将【增量】区域中【移动】左侧的【Y】轴参数设置为60，将【旋转】左侧的【Y】轴参数设置为20，将【阵列维度】区域下的【数量】的【1D】值设置为30，如图1-58所示。

09 选择【创建】|【几何体】|【平面】选项，在【顶】视图中进行创建，将【长度】、【宽度】都设为20000，如图1-59所示。

10 按M键打开【材质编辑器】，选择一个空的样本球，将其名称设为【平面】，将材质球的类型设为【标准（Standard）】，在【明暗器基本参数】卷展栏中将明暗器类型设为【Blinn】，在【Blinn基本参数】卷展栏中将【环境光】和【漫反射】的RGB值设为“30，30，30”，在【反射高光】选项组中，将【高光级别】设为70，将【光泽度】设为25，将制作好的材质指定给【平面】对象，如图1-60所示。

11 选择【创建】|【摄影机】|【标准】|【目标】选项，在【顶】视图中进行创建，在【参数】卷展栏中，将【镜头】设为35mm，激活【透视】视图，按C键，将【透视】视图转换为【摄影机】视图，如图1-61所示。

12 选择【创建】|【灯光】|【泛光】命令，在【顶】视图中进行创建一盏泛光灯，并调整位置，如图1-62所示。

13 在【常规参数】卷展栏中取消选中【阴影】选项组下的【启用】复选框，在【强度/颜色/衰减】卷展栏中将【倍增】设为0.1，如图1-63所示。

14 选择上一步创建的泛光灯，对其进行复制并调整位置，如图1-64所示。

15 选择【创建】|【灯光】|【标准】|【天光】命令，在【顶】视图中创建【天光】，如图1-65所示。

16 选择【创建】|【灯光】|【标准】|【目标聚光灯】选项，在【前】视图中进行创建，切换到【修改】命令面板，在【常规参数】卷展栏中的【阴影】选项组中取消对【使用全局设置】复选框的选择，在【强度/颜色/衰减】卷展栏中将【倍增】设为5，并将其后的色块的RGB值设为“0，140，0”，在【聚光灯参数】卷展栏中将【聚光区/光束】设为35，将【衰减区/区域】设为45，将【阴影参数】卷展栏中【对象阴影】选项组中的【密度】设为0.7，如图1-66所示。

17 在菜单栏中选择【自定义】|【首选项】命令，弹出【首选项设置】对话框，选择【Gamma和LUT】选项卡，取消对【启用Gamma/LUT校正】复选框的选择，并单击【确定】按钮，如图1-67所示。

18 激活【摄影机】视图，切换到【公用】参数卷展栏，将【产品级】设为【默认扫描器渲染器】，单击【渲染】按钮进行渲染即可，如图1-68所示。

1.8.2 挂表

下面我们讲解如何利用本节学习的知识来制作挂表，完成后的效果如图1-69所示，其具体操作方法如下。

01 单击【创建】|【几何体】|【圆柱体】工具按钮，在【前】视图中创建圆柱体，将其命名为【表】，在【参数】卷展栏中将【半径】设置为50，【高度】设置为10，【边数】设置为50，如图1-70所示。

02 在视图中选中圆柱体并右击，在弹出的快捷菜单中选择【转换为】|【转换为可编辑多边形】选项，如图1-71所示。

03 将当前选择集定义为【多边形】，在【前】视图中选择图1-72所示的多边形，并按Delete键将其进行删除，删除后的效果如图1-72所示。

04 关闭当前选择集在【修改器列表】中选择【壳】修改器，在【参数】卷展栏中的【内部量】文本框中输入3，在【外部量】文本框中输入5，并按Enter键确认，如图1-73所示。

05 单击【创建】|【图形】|【圆】工具按钮，在【前】视图中创建一个圆，将其命名为【内部装饰001】，在【参数】卷展栏中设置【半径】为7，并按Enter键确认，如图1-74所示。

06 在视图中选择创建的圆并右击，在快捷菜单中选择【转换为】|【转换为可编辑样条线】命令，如图1-75所示。

07 在【修改】命令面板中，将当前选择集定义为【顶点】，使用【选择并移动】工具选中最上侧和最下侧的顶点，右击，在弹出的快捷菜单中选择【Bezier角点】命令，如图1-76所示。

08 然后对选中的控制点的控制手柄进行调整，调整完成后的效果如图1-77所示。

09 在视图中调整对象的位置，如图1-78所示。

10 确定【内部装饰001】处于选中状态，在【修改器列表】中选择【挤出】修改器，在【参数】卷展栏中的【数量】文本框中输入1，如图1-79所示。

11 在【前】视图中选择【内部装饰001】，切换到【层次】命令面板，在【轴】卷展栏中单击【仅影响轴】按钮，在【前】视图中将轴的位置调整到【表】的中心位置，如图1-80所示。

12 调整完成后再次单击【仅影响轴】按钮以将其关闭，在菜单栏中选择【工具】|【阵列】命令，在弹出的对话框中将【旋转】左侧Z轴下的值设置为30，在【对象类型】选项组中选择【实例】单选按钮，在【阵列维度】选项组中将【1D】的【数量】设置为12，单击【确定】按钮，如图1-81所示。

13 阵列完成后选择【表】对象，切换到【修改】命令面板，选择【UVW贴图】修改器，在【参数】卷展栏中取消对【真实世界贴图大小】复选框的选择，选择【平面】单选按钮，在【对齐】选项组中选择【Z】单选按钮，并单击【适配】按钮，如图1-82所示。

14 在菜单栏中选择【自定义】|【首选项】命令，弹出【首选项设置】对话框，选择【Gamma和LUT】选项卡，取消对【启用Gamma/LUT校正】复选框的选择，并单击【确定】按钮，如图1-83所示。

15 按M键打开【材质编辑器】对话框，选择一个空的样本球，将其名称设为【表盘】，单击名称后面的按钮，在弹出的【材质/贴图浏览器】对话框中选择【材质】|【标准】|【标准】选项，单击【确定】按钮，如图1-84所示。

16 在【明暗器基本参数】卷展栏中将明暗器类型设为【金属】，在【金属基本参数】卷展栏中将【环境光】的RGB值设为“0，0，0”，【漫反射】的RGB值设为“255，218，13”，【高光级别】设为80，【光泽度】设为65，如图1-85所示。

17 切换到【贴图】卷展栏中并单击【反射】后面的【无】按钮，在弹出的【材质/贴图浏览器】对话框中选择【贴图】|【标准】|【位图】选项，单击【确定】按钮，在弹出【选择位图图像文件】对话框中选择随书附带光盘中的“CDROM|Map|Gold05.jpg”文件，并单击【打开】按钮，在【坐标】卷展栏中选择【纹理】单选按钮，取消对【使用真实世界比例】复选框的选择，将【瓷砖】下的UV分别设为0.4、0.1，【模糊偏移】设为0.1，单击【转到父对象】按钮，将【反射】后面的数值设为50，将制作好的对象指定给所有对象，如图1-86所示。

18 单击【确定】按钮，选择【创建】|【图形】|【文本】工具，在【参数】卷展栏中将字体设置为【经典趣体简】，将【大小】设置为8，在【文本】文本框中输入【12】，在【前】视图中的【内部装饰001】上单击，即可创建出文字曲线，如图1-87所示。

19 在【前】视图中选择文本，切换至【修改】命令面板中，在【修改器列表】中选择【挤出】修改器，在【参数】卷展栏中的【数量】文本框中输入1，按Enter键确认，并在其他视图中调整文本的位置，如图1-88所示。

20 选择一个空的样本球，将名称设为【数字】，并将材质球的类型设为【标准】，在【明暗器基本参数】卷展栏中将明暗器类型设为【各向异性】，在【各向异性基本参数】卷展栏中将【环境光】和【漫反射】的RGB值设为“255，255，255”，将【自发光】选项组中的【颜色】设为20，在【反射高光】选项组中将【高光级别】、【光泽度】、【各向异性】分别设为95、65、85，将制作好的材质指定给文字对象，如图1-89所示。

21 在【前】视图中选择创建的文本，切换到【层次】命令面板，选中【轴】按钮，在【调整轴】卷展栏中选中【仅影响轴】按钮，在【前】视图将轴的位置调整到【表】的中心位置，如图1-90所示。

22 再次单击【仅影响轴】按钮，将其关闭，在菜单栏中选择【工具】|【阵列】命令，在弹出的对话框中将【旋转】左侧Z轴下的值设置为30，在【对象类型】选项组中选择【复制】单选按钮，在【阵列维度】选项组中将【1D】的【数量】设置为12，如图1-91所示。

23 切换至【修改】命令面板，在堆栈中选择【Text】，在【文本】文本框中对文字进行修改，如图1-92所示。

24 在工具栏中选择【选择并旋转】工具，单击【角度捕捉】按钮，对文字进行适当旋转，效果如图1-93所示。

25 在视图中选择所有文字，在菜单栏中选择【组】|【成组】命令，并将【组名】设为【数字】，如图1-94所示。

26 使用同样的方法选择所有的【内装饰】对象，并对其进行编组，将【组名】设为【内装饰】，如图1-95所示。

27 选择【创建】|【图形】|【样条线】|【圆】命令，在【顶】视图中进行创建，并将【半径】设为53，如图1-96所示。

28 进入【修改】命令面板中，对其添加【挤出】修改器，将【数量】设为1，如图1-97所示。

29 继续对其添加【UVW贴图】修改器，在【参数】卷展栏中取消对【真实世界贴图大小】复选框的选择，并选择【平面】单选按钮，如图1-98所示。

30 按M键打开【材质编辑器】对话框，将名称设为【花纹】，将材质球的类型设为【标准】，切换到【贴图】卷展栏中，单击【漫反射颜色】后面的【无】按钮，在弹出的对话框中选择【贴图】|【标准】|【位图】选项，单击【确定】按钮，在弹出的对话框中选择贴图文件夹中的50804.jpg素材文件，在【坐标】卷展栏中，取消选中【使用真实世界比例】复选框，并将【瓷砖】下的UV都设为1，并将制作好的材质指定给上一步创建的圆，如图1-99所示。

31 在视图中调整所有对象的位置，如图1-100所示。

32 在场景中选择所有对象，在菜单栏中选择【组】|【成组】命令，将【组名】设为【挂表】，如图1-101所示。

33 单击【系统图表】按钮，在弹出的下拉列表中选择【导入】|【合并】命令，如图1-102所示。

34 在弹出【合并文件】对话框中选择随书附带光盘中的“CDROM|Scenes|Cha01|挂表装饰.max”素材文件，单击【打开】按钮，在弹出的【合并】对话框中选择【装饰】对象，并单击【确定】按钮，如图1-103所示。

35 对【装饰】对象添加【表盘】材质，在场景中调整【挂表】和【装饰】对象的位置，如图1-104所示。

36 按8键弹出【环境和效果】对话框，在其中单击【环境贴图】选项组中的【无】按钮，在弹出的【材质/贴图浏览器】对话框选择【位图】选项，单击【确定】按钮，选择随书附带光盘中的“Map|R2K2.jpg”素材文件，单击【打开】按钮，如图1-105所示。

37 按M键，打开材质编辑器，选择上一步添加的贴图，按着鼠标左键并将其拖至一个空的样本球上，在弹出的对话框中选择【实例】选项，并单击【确定】按钮，在【坐标】卷展栏中将【贴图】设为【屏幕】，如图1-106所示。

38 激活【透视】视图，在菜单栏执行【视图】|【视口背景】|【环境背景】命令，如图1-107所示。

39 选择【创建】|【摄影机】|【目标】命令，在【顶】视图中进行创建，将【镜头】设为35mm，激活【摄影机】视图，按C键将其转换为【摄影机】视图，并在视图中进行调整，如图1-108所示。

40 选择【创建】|【灯光】|【标准】|【天光】命令，在【顶】视图中进行创建，在【参数】卷展栏中将【倍增】设为0.8，选中【天空颜色】单选按钮，如图1-109所示。

41 选择【创建】|【几何体】|【标准基本体】|【平面】命令，在【前】视图中进行创建，在【参数】卷展栏中将【长度】和【宽度】都设为1000，如图1-110所示。

42 选择上一步创建的平面对象，单击鼠标右键，在弹出的对话框中选择【对象属性】命令，弹出【对象属性】对话框，在【常规】选项卡的【显示属性】选项组中单击【对象】按钮，选中【透明】复选框，单击【确定】按钮，如图1-111所示。

43 按M键打开材质编辑器，选择一个新的样本，单击【名称】按钮，在弹出的【材质/贴图】对话框中选择【材质】|【标准】|【无光/投影】选项，单击【确定】按钮并将材质指定给平面对象，如图1-112所示。

44 在【顶】视图中创建【目标聚光灯】，在【常规参数】卷展栏中选中【启用】复选框，取消【使用全局设置】复选框的选择，并将其类型设置为【光线跟踪阴影】，在【强度/颜色/衰减】卷展栏中将【倍增】设为0.2，如图1-113所示。

45 按F10键打开【渲染设置】对话框，切换到【公用】选项卡，在【指定渲染器】卷展栏中将【产品级】设为【默认扫描线渲染器】，单击【渲染】按钮进行渲染，如图1-114所示。